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ナノテック

ここでは、ナノテックの露光装置の特徴をご紹介します。

ナノテックの主な露光装置

斜光2灯裏面観察アライナーBA420

MRS

引用元:ナノテック
http://nanotech-inc.co.jp/back-side/ba420斜光2灯裏面観察アライナー/
露光方式 上側2灯(左右対称)/ 鉛直より左右35度(固定)傾斜下向き照射
波長 公式HPに記載なし
光源 露光ランプ
解像力 ライン&スペース3μm(参考値)
重ね合わせ精度 公式HPに記載なし

高精度高出力傾斜2灯式UV光源システム、試料裏面観察アライメントシステム搭載のマスクアライナー(露光装置)です。試料垂直面(側面)露光や逐次両面露光が可能なほか、各種形状試料に対応しています。

試料裏面アライメント露光装置 BA100

CMS-Ck

引用元:ナノテック
http://nanotech-inc.co.jp/back-side/ba100-片面ずつ試料表裏に露光可能/
露光方式 公式HPに記載なし
波長 365、405、436nm(主波長)
光源 UV光源
解像力 ライン&スペース:1~2μm(インテグレータレンズ方式の場合)
重ね合わせ精度 公式HPに記載なし

シンプルながら応用範囲の広い試料アライメント露光装置。従来の両面同時露光装置では難しかった、表裏で製造プロセスの異なる試料の逐次両面露光が可能です。光軸合わせが容易なUVランプアークモニタなど多彩な機能や特性を備えています。

1/5縮小露光フォトマスク作製機 MM605

ULAシリーズ

引用元:ナノテック
http://nanotech-inc.co.jp/photomask-exposure/研究室向け簡易マスク作製機/
露光方式 公式HPに記載なし
波長 公式HPに記載なし
光源 蛍光灯 30w 3本
解像力 公式HPに記載なし
重ね合わせ精度 公式HPに記載なし

研究室向けの簡易マスク作製機です。多種のマスクが必要になる大学や研究所などで簡単にフォトマスクを作製することができます。外部委託に頼る必要もなく、マスク製作をユーザー自身で安価に行えるのがメリット。改変の多い研究でおすすめな装置です。

光源・コスト・解像力で
比較
【量産向き】
おすすめ露光装置5選

ナノテックの露光装置はどんな人におすすめ?

ナノテックでは、マスクアライメント装置とも呼ばれるマスクアライナーの製品ラインナップが豊富です。

一般的なコンタクト方式のマスクアライナーの「片面アライナー LAシリーズ/ESシリーズ」や、試料の表裏に片面ずつ露光するタイプの「裏面アライナー BAシリーズ」、UV照射装置を二式装備する「両面アライナー(両年同時露光機)BSシリーズ」、角形試料の表面と左右両側面を同時に露光する「多面アライナー LA/BSシリーズ」など、さまざまなマスクアライナーを取り扱っています。

標準仕様をもとにカスタマイズすることも可能なので、ニーズに合う最適なマスクアライナーを使用したい場合におすすめです。

ナノテックはどんな露光装置の会社・メーカー?

技術開発型ベンチャー/民間企業の国内基礎研究を支援

株式会社ナノテックは、東京都板橋区舟渡にあるハイテク企業です。半導体製造装置、精密機械、光学機械、医療器械、MEMS、ナノテクノロジーなど、ハイテク分野の開発設計・機械加工・組立製作・販売を手がけています。

特徴的なのは、技術開発型ベンチャーへの支援や、民間企業の国内基礎研究を支援するための各種サポートです。ナノテックは先進技術を活かす様々な分野における、開発・研究を実現するために尽力しています。

ナノテックの会社情報

社名 株式会社ナノテック
本社所在地 東京都板橋区舟渡3-5-8-201
営業時間 公式HPに記載なし
電話番号 03-3960-3171
公式HPのURL http://nanotech-inc.co.jp/

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