このページでは、国内外の露光装置メーカーのレーザー露光装置を一気に紹介しています。それぞれの装置の特徴や違いを知りたい方は、ぜひ参考にしてみてください。
5軸(直進3軸、回転2軸)ステージを制御することで、球面への露光など、さまざまな3次元形状に対する露光ができるレーザー露光装置です。専用の変換ソフトを使用すれば、2D/3D、CADで制作したデータを読込ませることもできます。
フランス・クロエ社が開発したレーザー露光装置です。コンパクトな卓上型レーザー直描露光装置から高性能レーザー直描露光装置まで幅広いラインナップがあり、「Dilase 750」では最大12インチまでの基板サイズに対応します。
ドイツのハイデルベルグ・インストルメンツ社が開発した、マスク作成や直説描画に適した高速高解像度レーザー描画装置です。高精度アライメントカメラシステムが搭載されており、安定した高解像の露光を高速で実現します。
露光速度を高速にし、大型のマスク製造やレジストマスター作成に対応できるレーザー露光装置です。さまざまな平面基板に直接描画できるのが特徴で、半導体やディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージングなど、微細加工の分野で活躍します。
高速高解像度レーザー描画装置の製造で知られるドイツのハイデルベルグ・インストルメンツ社のシリーズです。高生産性、高精度性、高均一性を追求している他、超高精度位置合わせ技術が備わっており、高精度のマスク描画を実現します。
少量から中量生産の現場に適した非接触レーザー露光装置です。0.6umの微細描画が高速でできるのが最大の特徴。従来のマスクアライナーに代わる製品として注目され、世界に向けて出荷されています。
絶縁膜のパターン形成や金属パターン形成、MEMS形状のバンク・隔壁形成などをマスクレスで実現するレーザー露光装置です。独自の「ラスタースキャン型レーザ露光」で、走査幅全域において同じビーム形状で高精度の描画ができます。
半導体のシリコン基板(ウエハ)などのセンサ・電⼦回路を集約する微⼩電気機械システム(MEMS)をはじめ、⾼精度の電⼦機器の製造⼯程で⽋かせない存在となっている露光装置。量産⽬的、研究開発⽬的に分けておすすめの露光装置を紹介します。