ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

ここでは、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社の露光装置の特徴をご紹介します。

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社の主な露光装置

レーザー描画装置『DWL 2000』

フォトマスクやウエハー、その他基板への露光の用途に用いる高速高解像度レーザー露光装置です。高い安定性と柔軟性、抜群の装置性能を備え、微細構造を必要とする様々なアプリケーション用途におけるフォトマスク、ウエハーへの高速高精度パターニングを可能とします。

uMLA 卓上マスクレスアライナー

630mm×770mmのデスクトップサイズを実現した、最新式の卓上型マスクレスアライナーです。小ぶりながら高性能で、最小線幅0.6μmとサブミクロンの描画を可能にするほか、従来の卓上型直描装置よりも経済性、カスタマイズ性に優れています。

光源・コスト・解像力で
比較
【量産向き】
おすすめ露光装置5選

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社の露光装置はどんな人におすすめ？

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社では、「DWL 2000シリーズ」や「VPG⁺ シリーズ」、テーブルトップサイズの「uMLA」など、レーザー直接描画装置を提供しています。

レーザー直接描画装置の最大の特徴は、フォトマスクを介さず、基板上に直接露光パターンを転写できる点です。フォトマスクが不要になるため、露光工程の柔軟性が増すとともに、工数の削減やリードタイムの短縮にもつながります。

露光工程における高効率生産を実現したい場合におすすめです。

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社はどんな露光装置の会社・メーカー？

レーザーリソグラフィーに関する事ならお任せ！

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画システムおよびフォトマスク生産システムの設計・開発・製造・販売を手がけるドイツ企業の日本法人です。マスクレス・レーザーリソグラフィーシステムを得意分野とし、「DWL2000シリーズ」をはじめ、「VPGシリーズ」、「MLA150」、「uMLA」などレーザー描画装置の豊富なラインナップを揃えるほか、各有名企業、大学、研究機関にも自社製システムを提供しています。レーザーリソグラフィーに関するニーズがある方や、課題を解決したい場合にとても頼りになる会社です。

サーマプレシジョンの会社情報