露光装置の市場シェアは、主に i 線、KrF、ArF、EUVといったスペクトル線（光源波長）の種類によって分けられています。ここでは、それぞれの露光装置の市場について、企業別の出荷額シェアを分析します。
i線とは、波長が365nmのスペクトル線のことです。1990年代後半に、それまでのg線に代わってi線が主流になりました。 i 線の露光装置でトップシェアを占めているのは、キヤノンで55.2％。ついで、アメリカのVeecoが23.5％、ニコンが3位で12.8％、ASMLは8.5％で第4位でした。
i線の露光装置を取り扱っている主なメーカー・販売会社として、サーマプレシジョン、ウシオ電機、キヤノン、ニコンの特徴をご紹介します。
KrF線（クリプトン・フッ素）は、波長248nmの露光光源の名称です。エキシマレーザーという装置との組み合わせで、i線よりも微細な回路を露光することが可能です。露光装置市場におけるkrf線のシェア率は、キヤノンが51.1％でトップ。オランダのASMLが46.2％で、この2社が全体の97.3％を占めています。
特にキヤノンはKrFとi線にリソースを集中し、KrF露光装置のシェア拡大を狙っているようです。ここでは、KrFの露光装置を取り扱っているキヤノン、ASMLの特徴もご紹介します。
ArF（アルゴン・フッ素）とは、波長が193nmの露光光源の名称です。レーザーの当て方の違いによって「Arfドライ」と「Arf液浸」に分けられています。ArFドライの1位はニコンで61.7％、ASMLが38.3％。この2社がシェアを独占しています。ArF液浸のシェアもこの2社が独占していますが、順位が逆転し、オランダのASMLが94.3％、ニコンが5.7％となっています。
ここでは、ArFの露光装置を取り扱っているニコンとASMLについてもご紹介しています。
EUVとは、非常に短い波長（13.5 nm）の光のことで、極端紫外線とも呼ばれます。従来の露光技術では加工が難しい、7nmより微細な寸法の加工が可能です。EUV露光装置の開発には、2021年8月現在でオランダのASMLしか成功しておらず、同社が市場シェアを100％独占しています。
ここでは、EUVのみならず、半導体露光装置で世界トップシェアを誇るオランダの半導体製造装置メーカーASMLの特徴についてご紹介します。
半導体のシリコン基板（ウエハ）などのセンサ・電⼦回路を集約する微⼩電気機械システム（MEMS）をはじめ、⾼精度の電⼦機器の製造⼯程で⽋かせない存在となっている露光装置。量産⽬的、研究開発⽬的に分けておすすめの露光装置を紹介します。