ここでは、半導体製造装置メーカー、エイ・エス・エイ・ピイの露光装置の特徴を紹介しています。
露光方式 | 両面同時露光 |
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波長 | 公式HPに記載なし |
光源 | 超高圧水銀灯(250W,500W) ※UV-LED光源も対応可 |
解像力 | 公式HPに記載なし |
重ね合わせ精度 | 公式HPに記載なし |
ベルト搬送方式によりウエハ表面・裏面の同時露光が可能な半自動両面同時露光装置です。ベルト搬送方式の特性を生かし、fast露光モードを高タクトで処理が可能なほか、マスク交換も簡単に行うことができます。本製品は設計・製造・販売まで自社対応しているため、低価格を実現していることもメリットのひとつ。露光光源は超高圧水銀灯(250W,500W)ですが、UV-LED光源も対応可能です。
露光方式 | オート一括等倍露光 |
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波長 | 公式HPに記載なし |
光源 | 超高圧水銀灯(250W,500W) ※UV-LED光源も対応可能 |
解像力 | 公式HPに記載なし |
重ね合わせ精度 | 公式HPに記載なし |
オートアライメント機能搭載のオート一括等倍露光マスクアライメント装置です。複数基板サイズに対応し、φ3、4インチ φ4、6インチなど2サイズのウエハが兼用可能なほか、段取り替えも簡単です。超精密UVW駆動ステージを搭載しており、高性能画像処理を行うことにより、フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行うことができます。
エイ・エス・エイ・ピイでは、半自動両面同時露光装置(セミオートダブルマスクアライナー)や2サイズインチ兼用自動等倍露光装置(オートマスクアライナー)など、半導体基板への露光ができる半導体露光装置を複数ラインナップしています。
表面・裏面の同時露光や、完全非接触でのフォトマスク&ウエハの平行出し、露光といった機能性の良さもさることながら、一番の特徴は、設計から製造、販売まで全て自社で手がけていることです。
自社一貫対応により低価格を実現したほか、コンパクト化も実現するなど、多品種少量生産にも適しています。低価格、コンパクト、高機能な半導体露光装置をお探しの方におすすめです。
株式会社エイ・エス・エイ・ピイは、埼玉県さいたま市に本社を構える半導体製造装置メーカーです。コーター、リフトオフ、デベロッパの3つを中心に、半導体製造装置や半導体素子製造材料、半導体素子の製造販売を行っています。
大きな特長は、設計から製造まで一貫して手がける自社一貫体制。クライアントの工場面積や効率、用途に応じた半導体製造装置のフルカスタマイズに対応します。自由なカスタマイズを活かし、低価格、コンパクト設計、適切なスペックの装置を提供できる会社です。半導体素子製造に関するコンサルティング業務も行っています。
社名 | 株式会社 エイ・エス・エイ・ピイ |
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本社所在地 | 埼玉県さいたま市西区三条町27-1 |
営業時間 | ※公式HPに記載なし |
電話番号 | 048-871-8305 |
公式HPのURL | http://www.asap-semi.co.jp/ |
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