大日本科研

ここでは、大日本科研の露光装置の特徴をご紹介します。

大日本科研の主な露光装置

マスクレス露光装置MX-1201

露光方式	ダイレクトイメージ
波長	405/375nm
光源	公式HPに記載なし
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

高価なフォトマスクを使用せず、CADデータを変換してレーザーで直接描画するため、パターンの作成や変更を容易に行えます。開発コストやマーケットへの時間差を大幅に短縮することが可能。何より特徴的なのは、独自技術の「ポイント・アレイ」方式により、曲線でも滑らかなサブミクロンの描画パターンを形成できること。研究開発、試作、小ロット生産などにおすすめです。

フィルム用露光装置

露光方式	コンタクト・プロキシミティ
波長	公式HPに記載なし
光源	水銀ランプ
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

タッチパネル、電子ペーパー、光学フィルム(3D他)、有機EL、リチウムイオン電池、太陽電池、プリント配線板など、フィルム形状のワークに対応した露光装置です。プロキシミティ露光だけでなく、コンタクト露光（ソフト・ハード）にも対応。Roll to Rollだけでなく、枚葉式搬送など、ニーズに合わせた装置構成も可能です。

露光装置MA-1200

露光方式	コンタクト・プロキシミティ
波長	公式HPに記載なし
光源	水銀ランプ
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

ガラス、ウエハ、フィルム等に対応する、コンパクト設計の実験・研究用マニュアル式一括露光機です。コンタクト露光(ソフト・ハード)と、プロキシミティ露光が選択可能。用途と基板サイズに合わせて、水銀ランプと、各種ミラー、特殊レンズ、コンデンサーレンズなどを組み合わせた光学系を装備することができます。

化合物半導体用露光装置(マスクアライナ)

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	超高圧水銀灯
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

パターンを焼き付ける際に、フォトレジストが塗布された基板をマスクに重ね合わせます。独自の平行出し機構によって、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に設定。高速画像処理技術でも独自技術を有しており、より薄型な基板や反り基板、水晶などの割れやすいウェハにも対応可能です。コンタクト圧精密制御機構によって、マスクにウェハを高精度にコンタクト可能です。またウェハには裏面真空吸着方式を採用。高速・高精度で安定した自動搬送を実現します。

Ø300mm対応露光装置

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	超高圧水銀灯
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

自社開発のミラー光学系ランプハウスを搭載、照射面内均一性、高照度を実現します。独自の同軸アライメント方式と高速画像処理技術を採用し、高精度なアライメントを実現します。マスクチェンジャを搭載し、最大20枚のフォトマスクを自動交換します。ロードポートを最大３基搭載可能です。

MEMS用露光装置

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	超高圧水銀灯
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

光源は超高圧水銀灯：500W or 1kWで、本体寸法はW2120 x D1305 x H1850 mm、本体重量は640kgです。

フィルム用露光装置

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	公式HPに記載なし
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

タッチパネル、光学フィルム（3D他）、電子ペーパー、有機EL用マスクなど幅広いフィルム形状のワークに対応した露光装置です。柔軟性があり、薄く・軽量なデバイスの大量生産を実現。Roll to Rollにも対応可能です。独自の光学系により、片面露光・両面露光の選択が可能です。一灯式による両面露光も実現します。オプションとして、基板ステージ温度制御やマスク冷却仕様等も選択可能です。

G1～G4.5基板用プロキシミティ露光装置

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	超高圧水銀灯
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

非接触式のプロキシミティ露光装置で、エッジセンサ・ギャップセンサを搭載しています。処理部の温度を厳しくコントロールする環境チャンバーを備えています。また、熱による基板の伸縮を防止するステージ音調システムも採用可能です。マスクライブラリには、5枚のマスクを収納できます。

超大型基板用縦型プロキシミティ露光装置

露光方式	公式HPに記載なし
波長	公式HPに記載なし
光源	公式HPに記載なし
解像力	公式HPに記載なし
重ね合わせ精度	公式HPに記載なし

プロキシミティ露光機で、大型基板（42インチ16面）の均一露光を叶えます。マスクホルダ、基板ステージを縦に配置し、マスク、マスクホルダ、基板ステージの自重たわみ補正が不要です。非接触エッジセンサにより、基板を高精度にプリアライメントできます。低ディクリネーション角の光学系採用により転写精度が向上しています。独自のミラー光学系設計による全面均一平行光照射を実現しています。本体と光源部の完全分離により、本体部への熱影響を低減しています。

光源・コスト・解像力で
比較
【量産向き】
おすすめ露光装置5選

大日本科研の露光装置はどんな人におすすめ？

FPD用露光装置、基板用プロキシミティ露光装置、化合物半導体用露光装置(マスクアライナ)、フィルム用露光装置、MEMS用露光装置、マスクレス露光装置など、各種露光装置を製造しています。

試作、小ロット生産向けから、量産向け露光装置までラインナップ豊富。ニーズに合わせた装置作りにも対応してくれるので、自社の製品・製造ラインに合わせた装置が欲しい方、従来の装置に満足できない方におすすめです。

大日本科研はどんな露光装置の会社・メーカー？

ニーズに対応した製品づくりを実施

1967年の創業以来、「品質第一」「顧客優先」をモットーに、フォトリソグラフィ・プロセス関連の装置開発を行ってきた大日本科研。現在は露光装置を中心に、精密機器、光学機器、計測器、理化学機器等の設計・製造から販売、アフターサービスまでを一貫して行っています。

「高品質」「短納期」「低コスト」を目指し、顧客ニーズに柔軟に対応できる製品づくりが魅力。数々の装置は、日本国内の大手企業や公的研究機関のみならず、欧米・アジア諸国でも導入されています。

大日本科研の会社情報

社名	株式会社 大日本科研
本社所在地	京都府向日市寺戸町久々相1
営業時間	※公式HPに記載なし
電話番号	075-922-1146
公式HPのURL	https://www.kakenjse.co.jp

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