マスクレス露光装置

このページでは、露光装置の一種であるマスクレス露光装置の歴史や概要、メリット・デメリットなどを紹介しています。イプロスを参考にスペック比較も行っているので、機器の違いを知りたいという人もぜひ参考にしてみてください。

マスクレス露光装置の歴史・概要

マスクレス露光装置は、露光パターンジェネレーターにデジタルマイクロミラーデバイスを採用し、フォトマスクの代わりとしてパターン情報をフォトレジストに投影できる装置のことです。CADで作成したパターン情報を直接露光できるため、自由度が高いのが魅力でしょう。

また、マスクを作る時間とコストを削減できるので、試作に対するスループットの向上が期待できます。これまでのマスクが必要な技術とは異なり、試作とテストをスピーディーに実施しなければならない場合にも機敏な対応が可能です。

マスクレス露光装置のメリット・デメリット

高精度である一方、大規模なデータ量が必要

マスクレス露光装置は、フォトマスクにおける露光負荷がないため、非常に精密な位置精度と線幅制度を実現できるのが強みです。また、逆テーパー型断面形状を採用しているため、スムーズなペースト吐出が可能となり、膜厚バラツキを抑えられます。

その反面、マスクレス露光装置は大量のウエハー処理とデータ量の圧迫を原因として、大量生産で使用するためには今後さまざまな壁を乗り越える必要があるといえるでしょう。

各社のマスクレス露光装置

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界発の最小画素1μmを誇るマスクレス露光装置です。グレースケールデータを作成・変更可能なソフトウェアとDMDへ送られたウエアーで構成されており、希望する形状をスピーディーに具現化できます。

光源には405nmのLEDを使用しているため、メンテナンス性の高さも嬉しいポイントです。なお、オプションによって解像力を0.5µmへ変更も可能です。