ここでは、イーヴィグループジャパン(EV Group)の露光装置の特徴をご紹介します。
露光方式 | マスクレス露光 |
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波長 | 375nm/405nm |
光源 | 固体レーザー |
解像力 | < 2 µm L/S |
重ね合わせ精度 | 公式HPに記載なし |
EVGのマスクレス露光技術「MLE」を搭載した量産対応マスクレス露光装置です。露光フィールドに制限されない高解像度、リアルタイムでのデータ転送、即時露光、高いスケーラビリティなど特徴が豊富。マスクを使用しない方式のため、マスク関連の消耗品が不要なほか、調整可能な固体レーザーの採用により、保守・調整もほとんど不要です。
露光方式 | アライメント方式 |
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波長 | 公式HPに記載なし |
光源 | 紫外線 |
解像力 | 公式HPに記載なし |
重ね合わせ精度 | 公式HPに記載なし |
EVGのマスクアライメント装置です。「EVG®610」「EVG®620 NT」「EVG®6200 NT」「IQ Aligner® NT」など複数のモデルを取り扱っており、いずれも最大300mmまでの様々なサイズ・形状・厚さのウエハーや各種基板の処理を可能とする能力を備えています。先端パッケージング、化合物半導体、パワーデバイスなど導入実績も豊富です。
イーヴィグループジャパン(EV Group)では、「LITHOSCALE® マスクレス露光リソグラフィシステム」「マスクアライメント装置」「レジストプロセス装置」「リソグラフィ・トラックシステム」など多彩なリソグラフィ装置を提供しています。
いずれも高水準のスペックとプロセス処理能力を備え、先端パッケージングをはじめ、MEMS、バイオメディカル、IC基板の製造など、様々な市場やアプリケーション向けリソグラフィプロセスに貢献します。
先端テクノロジー分野での量産対応マスクレス露光装置を必要とする方におすすめです。
イーヴィグループジャパンは、半導体・MEMS・ナノテクノロジーおよびリソグラフィ装置のリーディングサプライヤー、EV groupの日本現地法人です。高水準の技術と装置ポートフォリオによって、先端パッケージング、3次元集積化、MEMS、先端化合物半導体、SOI基板製造など各先端分野市場で高いシェアを有しています。
顧客ニーズに柔軟に対応する豊富な製品群も強みです。リソグラフィ/ナノインプリントリソグラフィー(NIL)、薄ウェーハプロセス、ウェーハ接合、フォトレジストコーター、クリーナー、検査装置などラインナップは多岐にわたります。
単に便利な製品を作るだけでなく、「これまで見たことがない最先端技術」を創造できる企業です。
社名 | イーヴィグループジャパン株式会社 |
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本社所在地 | 神奈川県横浜市保土ケ谷区神戸町134 横浜ビジネスパークイーストタワー1F |
営業時間 | 9:00~18:00 |
電話番号 | 045-348-0665 |
公式HPのURL | https://www.evgroup.com/ja/company/global-presence/ev-group-japan/ |
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