半導体や液晶ディスプレイの製造現場で使用される装置で、ウエハと呼ばれる基板に半導体の回路パターンを焼き付ける機械のことを「露光装置」と言います。
半導体チップの製造工程において、回路のパターンを決定する、非常に重要な装置です。
ナノメートル単位で微細な回路パターンを刻む装置ですから、超精密な光学・工学のテクノロジーが駆使されています。
大型で、価格も億単位の製品が少なくありません。各社さまざまな露光方式で、装置を開発しています。
露光装置は露光方式によって、「投影露光装置」「プロキシミティ露光装置」「コンタクト露光」の3つに大別できます。
それぞれの露光方法・解像力、量産するうえでのメリット・デメリットをまとめました。
投影レンズを通してウエハに 露光する |
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高 (約2µm以下) |
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フォトマスクとウエハの間に約10um程の隙間を空け露光する | |
低 (約5〜10µm) |
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マスクとウエハを密着させて 露光する |
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中 (約1〜2µm) |
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MEMSなどプリント基板や半導体を量産したいなら、フォトマスクが半永久的に使え、解像力も高い投影露光装置がオススメ。初期費用が高額になるとはいえ、ランニングコストが抑えられ、微細な加工にも向いています。
投影露光装置は「縮小投影露光装置」と言われることもあります。
高精細のフォトマスク(レチクル)のパターンを投影レンズによって縮小しウエハに露光する技術です。
ただ一回で露光できるエリアが限られるため、ウエハ上を移動しながら照射しなければなりません。
この照射方法によって、「ステッパー」と「スキャナー」の2つに分けることができます。「ステッパー」は一定のエリアを移動しながら1回ずつ照射、「スキャナー」は細⻑いスリット状の領域を横⽅向に移動しながら照射するタイプ。
前者は費用が比較的抑えられ、後者はより精度が求められる工程に適しています。
以下では、ステッパー・スキャナー、それぞれのおすすめ縮小投影露光装置を厳選してご紹介しています。
小区画のエリアに分割し、ステップ・アンド・リピートして少しずつ露光する
細長いスリット状の領域を横方向に走査(スキャン)しながら、光を照射して露光する
フォトマスクが半永久的に使え、ランニングコストも比較的抑えられる縮小投影露光装置。
その中でステッパーはg線=436nm、h線=405nm、i線=365nmといった具合にスペクトル線(波長)によって種類が異なります。
なかでも半導体ウエハだけではなく、有機基板やガラス基板といった様々な材料に加えて、いろいろな電子デバイス産業で、広く使用の見直しをされているのがi線ステッパーです。
このi線ステッパーを製造・販売しているメーカーの製品のなかで、解像力の高い5製品をピックアップ。
光源・ランニングコスト・重ね合わせ精度、対応ウエハで比較してみました。
(2021年8月調査時点)
i線の ステッパー (メーカー名) |
CMS
(サーマプレジション) |
FPA-5520iV
(Canon) |
FX-903N
(Nikon) |
UX-4
(ウシオ電機) |
PPS-8200/8300
(オーク製作所) |
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光源 | UV-LED | UVランプ(水銀) | UVランプ(水銀) | UVランプ(水銀) | UVランプ(水銀) |
ランニングコスト | 低 (電気代) |
高 (電気代+ランプ代) |
高 (電気代+ランプ代) |
高 (電気代+ランプ代) |
高 (電気代+ランプ代) |
解像力 | 1.4µmL/S | ≦1.5µmL/S | 1.5μm | 2μmL/S~ | 2µmL/S |
重ね合わせ精度 | ※公式HPに記載なし | ≦0.15µm | ≦±0.30 μm | ≦1µm | ≦0.5μm |
対応ウエハ・基板 | ウエハ(特殊・大型~小型含む)、ガラス、有機基板など | シリコンウエハ | ※公式HPに記載なし | シリコン | ※公式HPに記載なし |
デモ | 〇 | 記載なし | 記載なし | 〇 | 記載なし |
i線ステッパーの光源は、主に水銀ランプとUV-LEDの2種類。より多く流通している水銀ランプは対応機器が豊富で初期費用が抑えられる反面、ランプの製品寿命が約2カ月と短く、定期的な交換が必要になります。
その点UV-LEDは初期費用がかかりますが、寿命が非常に長いです。一般的な水銀ランプは露光していない時間も点灯の必要があるため、
24時間点灯をしていなければなりませんが、UV-LEDはスイッチの切り替えが可能なため例えば、1日あたり8時間営業していたとしても、点灯時間はおよそ1.1時間ほどです。その為、UV-LEDは約25年交換せずに済みます。一般的な水銀ランプ=約30万円を年6回交換するだけで約180万が発生しますので、UV-LEDならこの交換代を削減することができるのです。
また、水銀は環境汚染と健康被害の観点から、規制の対象として使用を控える旨、環境省から通達が下りてります。将来的に水銀ランプが使用できなくなる可能性もあるため、その対策としてもUV-LEDの導入を視野に入れておくべきでしょう。
上記で紹介した量産向きのステッパー5選の特徴やメーカー情報を含め詳細をお伝えします。
光源 | UV-LED |
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ランニングコスト | 低(電気代) |
解像力 | 1.4µmL/S |
重ね合せ精度 | ※公式HPに記載なし |
対応ウエハ | ウエハ(特殊・大型~小型含む)、 ガラス、有機基板など |
ステッパーでは希少なUV-LED光源を採用
UV-LED光源を標準で搭載しているので、従来の水銀ランプ光源にくらべてランニングコストがかかりません。また、Co2の排出が抑えられるうえ、ランプ熱気の設置室外排気や、設置室内空気を加圧するための設備が不要となり、消費電力も節約することができます。将来的に規制強化される水銀を使用していないので、長く安心して使用することが可能です。
高精細・高精度・高生産性の
三拍子が揃う
650×550mmのフルサイズ基板に対応し、微細な露光も可能。解像力は1.4μmを誇り、高精細・高精度・高生産性が必要とされる用途に適した投影露光装置です。ショット毎チルト機構が搭載されており、より高い歩留まりを実現。ダイバイダイアライメント&グローバルアライメント方式を採用し、チップファースト工程にも対応可能と、さまざま用途・局面に利用できる汎用性の高さも魅力です。
社名 | 株式会社サーマプレシジョン |
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t本社所在地 | 東京都江東区冬木16-1 |
電話番号 | 03-3643-2921 |
公式HPのURL | http://www.cerma.co.jp/ |
光源 | UVランプ(水銀) |
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ランニングコスト | 高 (電気代+水銀ランプ交換代) |
解像力 | ≦1.5µmL/S |
重ね合せ精度 | ≦0.15µm |
対応ウエハ | シリコン |
広視野アライメントスコープを
搭載
異種半導体チップを同一パッケージ内で接合したSystem in Package(SiP) を薄く製造できるFOWLPの量産問題を解決するための技術を搭載。大きく反った基板でも確実に搬送できる上、基板ステージに、キヤノン独自の吸着システムを新規開発することで、高い光学性能を生かした微細パターニングを実現しています。また、チップの配列のばらつきが大きい再構成基板でも、パターニングの基準となるマークを検出できる広視野アライメントスコープを搭載。装置稼働率を向上させ、高い生産性を叶えてくれます。
独自の光学系で精度の高い
露光を実現
先端パッケージング向けの「FPA-5520iV」(2016年7月発売)の基本性能を残し、解像性能の高い投影光学系と高精度な重ね合わせが可能なアライメントシステムを継承。照度を約30%向上させた新開発の高照度照明光学系を採用することで、厚膜フォトレジストの過程における露光時間を短くし、ウエハー処理能力を20%ほど向上させました。オプションを利用することで、52×68mmの広画角を一括で露光することも可能です。
社名 | キヤノン株式会社 |
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本社所在地 | 東京都大田区下丸子3-30-2 |
電話番号 | 03-3758-2111 |
公式HPのURL | https://global.canon/ja/ |
光源 | UVランプ(水銀) |
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ランニングコスト | 高 (電気代+水銀ランプ交換代) |
解像力 | 1.5μm |
重ね合せ精度 | ≦ ±0.30 μm |
対応ウエハ | ※公式HPに記載なし |
730mm×920mmクラスの第4世代に対応
2007年4月に「FX-803M」と同時発売された、中小型液晶パネル向けのLCD露光装置です。ステッパー方式で、ガラス基板寸法730mm×920mmクラスの第4世代に対応。1枚の基板から、2型パネルを294面、4型パネルを84面取り出すことが可能です。オプションで、ライブラリにレクチルを最大60枚まで装填できます。
高いアライメント精度と
解像度が魅力
高精度な6インチレチクルを採用し、0.3μm(3σ)以下というアライメント精度を実現しています。さらに、新開発の大口径かつ低収差i線投影レンズを採用することで、解像度を1.5μmに向上。同時発売のFX-803Mは解像度3μmで、従来モデルに比べ生産性を10%以上高めています。携帯電話機や車載向けの中小型液晶パネルの高精細化や、高性能化に対応してくれます。
社名 | 株式会社ニコン |
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本社所在地 | 東京都港区港南2-15-3 品川インターシティC棟 |
電話番号 | 03-6433-3600 |
公式HPのURL | https://www.nikon.co.jp/ |
光源 | UVランプ(水銀) |
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ランニングコスト | 高 (電気代+水銀ランプ交換代) |
解像力 | 2μmL/S~ |
重ね合せ精度 | ≦1µm |
対応ウエハ | シリコン |
パッケージ基板向けステッパー
長年培ってきた光源・光学技術に、独自に開発した大面積の投影レンズ技術とパネルサイズに応じたステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。ウシオのパテント技術である「TTL非露光方式波長アライメント」による、鮮明なマークでの高精度なアライメントが可能です。FC-BGA、FC-CSP、インターポーザー、2.1D、2.5D、パッケージ、半導体後工程、RDL、Passivation、TSVなどさまざまな用途におすすめです。
高い解像度を実現し
本格量産に対応
ウシオの投影レンズ「UPLシリーズ」を搭載し、高い解像能力を実現。L/S=5μmのデザインルールの本格量産に対応します。また、焦点深度が深いため、基板の段差や反り、うねりによる焦点ズレに対しても、ジャストピントと同等のパターンプロファイルが得られます。また、基板の収縮や反りに応じて投影倍率を最大0.1%自動変倍する「オートスケール機能」を搭載し、アライメントのズレを大幅に軽減してくれます。
社名 | ウシオ電機株式会社 |
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本社所在地 | 東京都千代田区丸の内1-6-5 |
電話番号 | 03-5657-1000 |
公式HPのURL | https://www.ushio.co.jp/jp/ |
光源 | UVランプ(水銀) |
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ランニングコスト | 高(電気代+ランプ代) |
解像力 | 2µmL/S |
重ね合せ精度 | ≦ 0.5μm |
対応ウエハ | ※公式HPに記載なし |
薄ウエハ・TAIKOウエハ・反りウエハなどに対応
半導体バッククラウド・先端パッケージの露光工程を担う高性能ステッパーです。レジストアウトガスと周辺環境のケミカルからプロテクトされた光学系を搭載。開口率を変更できる、可変NA機能も搭載しています。薄ウエハ・TAIKOウエハ・反りウエハなどを含む6・8・12インチのウエハに対応。WL-CSP、IGBT、CISなどのリソグラフィにおすすめです。
インライン対応などオプションも充実
レシピに連動して光源の波長をghi線、gh線、i線に自動切り替えできるブロードバンド露光で、各種レジストの最適プロファイルを実現することができます。バックサイドアライメントシステム、ウエハ周辺露光システム、ウエハ周辺非露光システム、薄ウエハ搬送システム、GEM通信対応、インライン対応などさまざまなオプションも用意しています。
社名 | 株式会社オーク製作所 |
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本社所在地 | 東京都町田市小山ヶ丘3-9-6 |
電話番号 | 042-798-5130 |
公式HPのURL | https://orc.co.jp |
ステッパーに比べて、導入コストがかかるとはいえ、より微細な露光が可能となるスキャナー。
g線=436nm、h線=405nm、i線=365nmのスキャナーの中で、解像力の高い製品(≦2µmL/S以上)を3製品をピックアップし、
光源、解像力、重ね合せ精度、対応ウエハサイズなどで比較してみました。
(2021年8月調査時点)
i線の スキャナー (メーカー名) |
FPA-5550iZ2
(Canon) |
DW-3000
(SCREEN) |
PLS-3000
(ピーエムティー) |
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波長 | i線(365nm) | i線(355nm) | h線(405nm) |
光源 | 水銀ランプ/SSC | YAGレーザ(16W) | LEDスキャン |
解像力 | ≦350nm | ≦2µmL/S | ≦0.5µmL/S~ |
重ね合せ精度 | SMO≦18nm、MMO≦25nm (オプション適用時) |
※公式HPに記載なし | ≦0.5µm |
対応ウエハサイズ | 8inch/200mm、12inch/300mm | 200mm~300mm | ※公式HPに記載なし |
上記で紹介した量産向きのスキャナー3選の特徴やメーカー情報を含め詳細をお伝えします。
波長 | i線(365nm) |
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光源 | 水銀ランプ/SSC |
解像力 | ≦350nm |
重ね合せ精度 | SMO≦18nm、MMO≦25nm (オプション適用時) |
対応ウエハサイズ | 8inch/200mm、12inch/300mm |
継続的なアップグレードで
精度向上
安定した稼働に定評のある半導体露光装置「FPA-5550iZ」(2008年11月発売)を刷新し、さらなる生産性と重ね合わせ精度の向上を実現したi線ステッパーです。「FPA-5550iZ」と同一のプラットフォームを使用しているため、市場で稼働している装置へのソリューション提供、生産性や重ね合わせ精度向上のための継続的なアップグレードなどを容易に提供することが可能です。
非常に高い生産性を実現
シーケンス最適化によるウエハ処理時間の短縮と、ウエハロット交換時間の短縮により、非常に高い生産性を実現しています。また、独自技術である、ショット形状補正機能「SSC(Shot Shape Compensator)」を投影光学系に搭載しており、ショットの縦横倍率差とスキュー成分を補正することが可能。下地ショット形状に合わせて重ね焼きすることで、高水準の重ね合わせ精度を実現しています。
社名 | キヤノン株式会社 |
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本社所在地 | 東京都大田区下丸子3-30-2 |
電話番号 | 03-3758-2111 |
公式HPのURL | https://global.canon/ja/ |
波長 | i線(355nm) |
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光源 | YAGレーザ(16W) |
解像力 | ≦2µmL/S |
重ね合せ精度 | ※公式HPに記載なし |
対応ウエハサイズ | 200mm~300mm |
ツイン描画ヘッドを搭載
高生産性を確保するGLV™技術を採用した露光ヘッドを搭載。ハイパワーYAGレーザとのツイン描画ヘッドで、多チャンネルの光を同時にオン/オフすることができます。また、グローバルアライメントに加え、描画データを制御してのウエハ毎に補正が可能なローカルアライメント機能も搭載。高い歩留まりと信頼性の高いデバイス性能を実現しています。
独自の光学系で高段差や
厚膜レジストにも対応
独自の低N.A.の描画ヘッドを搭載しており、TSV、バンプ形成工程で必要とされる高段差、および厚膜レジストに対しても均一性の優れたパターニングを行うことができます。また、信頼性の高い高速ステージを採用。300mmウェーハの直接描画装置として、毎時65枚のスループットを実現しています。 少量多品種生産から大量生産までフレキシブルに対応できる装置です。
社名 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ |
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本社所在地 | 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1-1 |
電話番号 | ※公式HPに記載なし |
公式HPのURL | https://www.screen.co.jp/spe/ |
波長 | h線(405nm) |
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光源 | LEDスキャン |
解像力 | ≦0.5µmL/S~ |
重ね合せ精度 | ≦0.5µm |
対応ウエハサイズ | ※公式HPに記載なし |
直接描画で半導体デバイスの
試作を効率化
DMDと呼ばれる表示素子を使用し、ウエハ上にパターンを直接描画するマスクレス露光装置です。「早い・安い・高精度」のコンセプトどおり、ステージと同期されたON/OFF制御によってステップ&スキャン方式で描画するため、 100mm×100mmの範囲を約10分で描画することが可能。描画データはDXF、CIF、GDSII、Gerber、BMPなど各種フォーマットに対応しており、この装置自体でマスクを作成する事もできます。
少量多品種向けの用途におすすめ
露光結果のジャギーが使用用途の妨げになるというお客様の声に応え、ピクセル補間技術を応用したファイン露光モードを標準搭載。 0.1µm の高分解能で、斜線・曲線それぞれのパターンでデータの再現性が大きく向上しています。最大12インチのウエハに対応。半導体デバイスの試作など、少量多品種向けの用途におすすめです。
社名 | 株式会社ピーエムティー |
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本社所在地 | 福岡県糟屋郡須恵町大字佐谷1705-1 |
電話番号 | 092-933-3110 |
公式HPのURL | https://www.pm-t.com/ |
ここからは研究開発向けの露光装置に対応してくれるメーカーを紹介。公式ホームページに研究開発やR&D用の露光装置をラインナップしている会社を3社厳選しました。
(情報は2021年8月時点)
社名 | 株式会社サーマプレシジョン |
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本社所在地 | 東京都江東区冬木16-1 |
公式HP | http://www.cerma.co.jp/ |
電話番号 | 03-3643-2921 |
UV-LED光源を標準搭載した露光装置を製造・販売
プリント基板をはじめ、半導体・LCD・PDPなど主要電子部品の製造装置、検査分析装置の販売など行っているサーマプレシジョン。長年のレジスト塗布経験を活かし、塗布工程や露光工程、現像/エッチング工程、めっき工程、後工程まで、露光工程のシームレスソリューションを提供しています。露光装置では、UV-LED光源を標準搭載し、水銀ランプ光源を使用した従来機よりランニングコストを抑えられる投影露光(プロジェクション)方式の露光装置を製造・販売。用途に応じ、カスタマイズして提供してくれます。
社名 | キヤノン株式会社 |
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本社所在地 | 東京都大田区下丸子3-30-2 |
公式HP | https://canon.jp/ |
電話番号 | 03-6719-9111 |
i線とKrF線で世界的シェアを誇る大手精密機器メーカー
カメラ、ビデオをはじめとする映像機器や事務機器、デジタルマルチメディア機器や半導体・ディスプレイ製造装置などを開発・製造している日本の大手精密機器メーカーです。露光装置の開発・販売は1970年から50年以上と実績豊富。特にi線露光装置とKrF露光装置の2種類で豊富なラインナップを展開しており、両市場では出荷額で世界的なシェアを誇っています。低価格と短納期を強みとしている上、革新的技術でさらなる微細化を目指したナノインプリントリソグラフィの開発でも注目を集めています。
社名 | 株式会社 大日本科研 |
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本社所在地 | 京都府向日市寺戸町久々相1 |
公式HP | https://www.kakenjse.co.jp |
電話番号 | 075-922-1146 |
「お客様に喜んでいただける製品づくり」を追求
「品質第一」「顧客優先」をモットーに、フォトリソグラフィ・プロセス関連の装置開発を行っています。現在は露光装置を中心に、FPD用露光装置、基板用プロキシミティ露光装置、化合物半導体用露光装置(マスクアライナ)、フィルム用露光装置、MEMS用露光装置、マスクレス露光装置など、各種露光装置を製造。独自の光学技術で、大面積照射・均一照射・高照度を可能にし、転写精度の高い露光を行うことが可能です。「高品質」「短納期」「低コスト」を目指し、顧客ニーズに柔軟に対応できる製品づくりを追求。数々の装置は、日本国内の大手企業や公的研究機関のみならず、欧米・アジア諸国でも導入されています。
LED光源を搭載した投影露光装置をはじめ、塗布装置/印刷装置、ケミカル処理装置、ブラシ式基板クリーナーなど、電子機器の生産に広く使用される機器類を販売。 「技術を語れる商社」として、露光工程のシームレスソリューションを提供しています。
1964年の創業以来、「光のプロフェッショナル集団」として、光を利用・応用し、新しい光市場を創出。性能(解像力、重ね合わせ精度、生産性)やコストなど、多様化するニーズに合わせた、さまざまな露光方式を提供しています。
世界的に有名な、日本の大手精密機械メーカーです。露光装置市場では、1970年に半導体露光装置「PPC-1」を開発して以来、50年以上にわたって露光装置を開発・製造。革新的技術「ナノインプリントリソグラフィ」の開発でも注目を集めています。
日本を代表する光学機器メーカーの一つです。2010年代以降は半導体露光装置事業に力を入れており、「投影レンズの解像度」「重ね合わせ精度」「スループット」の3つの技術を高いレベルで組み合わせた、精度の高い露光装置を開発・製造しています。
エレクトロニクス業界のさまざまな分野で培ってきた技術をベースに、クライアントのニーズに基づいて柔軟な発想で開発に取り組んでいる産業用自動化装置メーカーです。自社内に加工設備を保有しており、ユーザーニーズに迅速に対応できる点が強みです。
1967年の創業以来、「品質第一」「顧客優先」をモットーに、機器等の設計・製造から販売、アフターサービスまでを一貫して行っています。「高品質」「短納期」「低コスト」を目指し、顧客ニーズに柔軟に対応できる製品づくりが魅力です。
1968年の創業以来、幅広い分野に貢献している「光」の専門メーカーです。自社工場にてランプと露光装置を一体として製造するなど、国内でも珍しい製造体制で、生産性が高く高精度な露光装置を数多く製造しています。
半導体機器事業を主に行っており、「強いものづくり」「革新的なものづくり」で拡大していく市場ニーズに着実に対応。長年培ったエッチング、フォトリソグラフィ、画像処理技術で、直接描画装置DW-6000やDW-3000などを製造・販売しています。
半導体デバイスの試作を効率化するマスクレス露光装置や、クリーンルームいらずのミニマル マスクレス露光装置などを製造・販売。超精密軸制御技術をコアとした多彩な要素技術で、分野の枠にとらわれないモノづくりを行っています。
1953年の創業以来、世界中のエレクトロニクス関連商品を扱う電気電子専門商社と、多彩な工業薬品や化粧品関連商品を開発製造する化学メーカー、それぞれの事業分野を連携させながら、国内外で豊富な実績を築いています。
精密機器専門商社として、国内大手メーカーの各種顕微鏡、露光装置、試験機などの幅広い商材を扱っています。また、自社でもニーズに合わせた製品の企画・設計・製作等に対応。高い技術力によるアフターサービスも行っています。
電子部品・バイオ・食品・酪農畜産分野の商社事業の傍ら、少量からのボンディング・スパッタリング・パターニング、及び製造機器の部品販売や洗浄サービスなどのアウトソーシングも提供。オンリーワン製品を通じた「解決策」を提案しています。
1960年の設立以来、国内外に多くの拠点を有し、高い技術力で「工場」や「生産設備」を創り出す技術者集団として実績豊富。「エンジニアリングとものづくり」を基本コンセプトに、幅広い独自技術を駆使した幅広いソリューションを提供しています。
各ユーザーのニーズに合わせ、特殊精密光学機器、産業装置などをベストマッチで設計、製造、販売している光学機器メーカーです。光学技術をコアに多角的に事業を展開している他、自社装置のメンテンナンスなど、サービス事業も展開しています。
兵庫県姫路市の本社工場を拠点に、高性能・高品質を追求。「光をベースにしたフェニックス電機の製品は品質が高く、あらゆる要求を満足させるものとする」として、お客さまによって利便性の高い商品づくりを行っています。
斬新な視点と確かな技術に裏打ちされた「ものづくり」の精神で、世界一の「光学レーザと超微細画像処理の匠集団」を目指しています。マスクレス露光装置D-light DL-1000は、国内の大学等や研究機関をはじめ、国内外で多数の販売実績があります。
一貫して自社内での「設計・製造」にこだわっており、「オーダーメイド&短納期」が強みです。コンパクトサイズのLED UV 露光光源装置、コンベアタイプのUV 大面積露光器・硬化装置など、豊富なラインナップでさまざまなニーズに応えています。
1941年にばねの製造からスタートし、オフィス家具や外構・エクステリア、エレクトロニクス関連など幅広い分野で事業を展開。2018年にはトプコンから露光装置事業を買収し、卓上型 R&D 露光装置 TME-150Rなどを販売しています。
企画・開発から調達・生産、販売・アフターフォローまで自社内で行っており、すべてのプロセスで一貫した品質管理を実現。露光装置は試作実験用から小ロット生産用の小型設備まで扱っており、1万円台~26.7万円ととってもリーズナブルです。
グループ力を活かした製販融合を推進し、独自のビジネスモデルを確立。大阪市淀川区を拠点に、国内だけでなく、海外にも多数拠点を設立するなど、グローバルな事業展開を行っている、エレクトロニクス業界の技術商社です。
「顧客満足」を第一とした誠実なものづくりで、各種産業用・照明用光源、光源装置の製造販売など、日常を快適にするためのソリューション・サポートを提供。Texas Instruments社の0.7XGA DMDを用いたマスクレス露光装置の製造販売も行っています。
「大いなる志と溢れる情熱で、世界最高のイノベーションを創造し、社会に貢献します。」を理念に、国内外で積極的な事業成長と社会貢献を目指しています。既存の技術や製品、ビジネスの枠組みにとらわれないイノベーション創造力が強みです。
投影縮小露光機ステッパーによる、幅1μmの量産クロムパターンを製品化。高精度なフォトマスクやレチクルへのパターン加工にも対応しています。パターンの精度や製品の保証も行うなど、安心感を持って依頼できる会社です。
マスクアライナー(露光装置)のラインナップが豊富な会社です。片面アライナー、裏面アライナー、両面アライナー、多面アライナーなど、多彩なシリーズ製品を提供しています。研究室向けの簡易マスク作製機にも対応。
各種精密微細印刷装置、感光性樹脂版製版装置一式、感光性樹脂版材、代替溶剤、印刷用部材等を製造しています。露光装置では、表面処理露光装置、ロータリー型露光装置、大型両面露光装置など製版用露光装置のラインナップが豊富です。
フォトプロセス解析露光装置の製造・販売を手がける会社です。リソグラフィのスペシャリストとして、リソグラフィーシミュレーションパラメータ測定、感光性材料の特性評価、アウトガス分析、ナノインプリント実験サービスなど技術サービスやコンサルティングも豊富に提供しています。
電子部品や電子装置の設計・製作・販売を手がける会社です。露光装置関連では、露光装置に設けられる受光器向けの小型電源を販売。電圧・電流モニタを標準装備した超小型電源や、高速応答性1kHz以上の高精度「高電圧アンプ」など品揃えが豊富です。
産業・自動車用部品、半導体関連部品、電子デバイスなど、幅広い事業を手がける大手電子部品・電気メーカーです。「令和2年度全国発明表彰 発明賞」を受賞した「低比重・低熱膨張コージェライト」で、露光装置の高機能化に貢献しています。
「水平・垂直とも高い防振性能を有する「ATシリーズ」など、露光装置を衝撃振動から守る防振台や空気ばねユニットを多数製造販売しているほか、フォトレジスト等への等倍露光によるパターン形成が可能な「マニュアルマスクアライナ」も提供しています。
印刷機、乾燥機、製版機械、露光装置、超高圧成形機(FIM)など、スクリーン印刷用資機材の開発・製造・販売を手がけています。レーザーで直接描画・露光ができる「LDI-CTS」、照度分布に優れた反射構造を持つ「UVボックス」など、高機能な露光装置のラインナップが豊富です。
東京は八王子に本社工場を構える光源・光学機器の開発製造メーカーです。輝度箱、シャッター測定器、輝度・光量測定器など、数々の光学機器を取り扱っています。露光装置では、スペースをとらない卓上型のUV露光機「UVL-2」が必見。
レーザー技術を通して科学の発展と豊かな社会に貢献することを目指しています。様々な用途に用いられる各種レーザー機器及びレーザーシステムの取り扱いが豊富です。操作性の良い卓上型の「マスクレス露光装置PALET」や、半導体レーザーで直接露光が可能な「3次元形状レーザー装置装置」など、露光装置の提供にも意欲的。
工作機械・産業機械・食品・医薬品機械など様々な機械製品の販売とソリューションを提供する伊藤忠グループの機械専門商社。培った豊富な経験と高い技術力でユーザーの課題を解決し、機械導入をサポートすることができます。
日立ハイテクグループの一員として、ハイテク・ソリューション事業における世界のトップを目指している製造・検査システムサプライヤーです。液晶製造関連では、高効率生産を実現した大型ガラス基板露光装置を提供。高精度はそのままに生産性の向上が可能です。
国内外に拠点を有しグローバルな事業活動を展開しています。露光装置では、パッケージプリント配線板用のダイレクト露光機「DE-6UHII」を提供。ビームスポット径の微細化を実現した本機は、高い解像性と生産性、メンテナンス性能も備えるなど総合力の高い傑作です。
昭和30年に設立した歴史と実績のある会社です。ピアノ線やステンレス線などばね材料を扱う一方、ダイレクトイメージング露光機(IP SERIES)など、HDI薄板ビルドアップ多層基板、BGA、CSP、FC-BGAといった各種基板に対応する最先端のデジタルダイレクト露光機を提供しています。
1972年の創業以来、40年以上にわたり光源機器メーカーとして事業活動を続けている会社です。露光装置では、機能性の高い紫外線露光装置を提供。照射面に均一に照射波長選択が可能な露光装置や、一定の偏光光のみ照射可能な偏光露光装置など、当社の光技術が生かされた傑作機が目白押しです。
精密製造装置メーカーとして、FPD(液晶・プラズマパネル)、各種露光機、半導体製造装置、各種搬送システム、溶接機など様々な営業品目を手がけています。社内には研究・企画・設計・製造・制御の各部門を設置。「総合的でシームレスな製造工程のプロデュースが可能」です。
1972年の創業以来、ディスプレイに携わる技術者・研究者への支援を行い続けています。ディスプレイ・液晶開発のエンジニアリングパートナーとして、ガラス加工から各種周辺装置、治具等のワンストップ対応が可能です。
創業以来、精密フォトリソグラフィの分野で多くの実績を積み重ねています。精密フォトリソ用の紫外線平行光照射装置や超高圧水銀灯光源装置、小型手動露光装置の開発・設計・製造を一貫して手がけるほか、試運転、調整、完成検査、アフターサービスも万全です。
露光装置をはじめ、半導体製造装置や半導体素子製造材料、半導体素子の製造販売を手がけています。設計から製造まで自社で一貫対応できるため、ニーズに合わせた半導体製造装置のフルカスタマイズと最適なスペックを提供可能です。
量産装置やカタログ等のない一社向けのオーダーメイド品の供給を基本にしています。全自動式両面露光装置をはじめ、PETRAナノインプリントステッパー、抵抗測定装置、ECU中間検査装置など、FA、自動化、省力化を推進する技術とアイデアが豊富です。
創業1954年(昭和29年)の半導体検査装置の大手メーカー。半導体試験分野のリーディング・カンパニーとして高い市場シェアを誇っています。電子ビーム(EB)を用いた直描露光装置、SoCテスト・システム、テスト・ハンドラ、SSD試験装置など、様々なテストニーズに対応する機器やソリューションを提供しています。
プリンテッド・エレクトロニクス関連を得意とし、インクジェット工法を用いた様々な技術・開発を行っています。ワイ・ドライブ提供のテレセントリックfθレンズ仕様・レーザ露光装置は、プリンテッド・エレクトロニクス分野のパターンをマスクレスで直接描画できます。
スクリーン印刷に不可欠なスクリーンマスク製造のプロフェッショナル集団です。「スクリーン印刷を通じて産業の発展に貢献する」という理念のもと、マスク(PS版・スクリーンマスク)、直接法感光材、直間法フィルム、露光機、現像機、乾燥機など“使う側の立場で作られた”機器を提供しています。
IC生産分野に強い小型ラボ機メーカーです。マニュアルタイプのマスクアライナーをはじめ、スピンコーター、現像・エッチング装置など、“お客さまの立場”で考えられた有能な製品の供給に努めています。
設立は2009年7月。東京都江東区に拠点を構え、半導体製造装置の設計・開発・製造・販売までトータルに対応しています。MDA-400LJ・MDA-400M・MDA-600Sなど、優れた技術を結集したマスクアライナーのラインナップが豊富です。
高精度TSレンズや光学ユニット設計・製作を手がける光学機器用レンズの製造メーカーです。フラットパネルディスプレイ(FPD)露光装置、一眼カメラ、顕微鏡、レーザー加工など多彩な分野に対応。自社製の光学製品と光学技術をあらゆる産業界に提供し発展に貢献しています。
医療機器・宇宙開発など各界で高い評価を受けている研究開発型企業です。天文・宇宙分野を得意とし、長年の培った光学技術を活用して、幅広い分野の優れた製品開発を行っています。EUVL(極端紫外線)による露光装置を開発するなど、露光技術にも対応。
レーザー加工装置や露光装置など、海外の先端的で優れた製品を日本に紹介している輸入販売業者です。長寿命LEDによりUV全面露光が可能な超小型LED露光装置、コンパクトな卓上型レーザー直描露光装置など、露光装置のラインナップを豊富に取り揃えています。
レーザー直接描画システムの製造・販売を手がけるドイツのマスクレス・レーザーリソグラフィーシステムのリーディングカンパニーです。レーザー描画装置の豊富なラインナップを取り扱っているほか、大学、研究機関、有名企業への提供実績もあります。
有機EL技術を得意とするフラット・パネル・ディスプレイ(FPD)、その他最先端装置の製造メーカーです。コア技術の有機EL以外では、紫外線応用装置にも対応。大型パネルなど大画面の一括露光を可能とする「紫外線偏光露光装置」を提供しています。
美濃商事はスクリーン印刷を得意としています。スクリーン印刷機器、スクリーン印刷周辺機器、製版機器、デジタル出力機器、露光装置などスクリーン製版関連のラインナップが豊富です。スクリーン印刷業界発展のために努力しています。
EVGのマスクアライメントを多数取り扱っています。「EVG®610」「EVG®620 NT」「EVG®6200 NT」「IQ Aligner® NT」などラインナップが豊富なうえ、いずれも最大300mmまでの様々なサイズ・形状・厚さのウエハーや各種基板に対応する処理能力を備えます。
半導体・電子部品製造装置のソリューションプロバイダー。「手動マスクアライナMJB4」や「手動マスクアライナMA/BAGen4」など、ズース・マイクロテックのマスクアライナ(露光装置)を取り扱っています。高精度アライメントが特徴です。
高い技術と開発力を生かし、半導体研究用機器の技術向上に邁進しています。「K-307PS95」「K-309PW95」「K-311PS100」「K-400PS95」等、設置場所を選ばない、便利で扱いやすい卓上型マスクアライナーを多数用意しています。
タッチパネル・PETなど、フィルム材料用の自動両面露光装置を提供しています。両面露光は片面露光と比べ、露光工程を減らせるのが利点。複雑精密なパターン描出でも、効率よく露光できます。高精度画像と効率性を重視する企業におすすめです。
電子部品製造装置と先端のプレス加工技術を得意とする、長野県諏訪郡富士見町の装置メーカー。ベアックが提供する平行光プロキシミティ露光機は、高解像度や高速露光・位置精度・好作業性など、魅力的な特徴と高スペックを備えています。
ハイレベルな技術・サービス、グローバルな販売網を持つ高精細光造形装置メーカー。2光子重合技術に基づいた製品開発・サービス提供を得意としています。Nanoscribeの技術の特性を高精度・高精細なリソグラフィシステムや、3Dプリンティングツールの開発に活かしています。
光・電子・化学・機械工学を合わせた「オプトエレクトロニクス」技術により、様々なエレクトロニクス部品の製造装置を開発・製造しています。コンタクト露光装置は、ソルダーレジスト用・シートタイプ全自動・タブレット/スマートフォン対応などラインナップが豊富です。
各種画像処理システムや精密測定器、光学機器等を幅広く扱っています。露光装置では、マスクレス露光装置・顕微鏡LED露光ユニット「UTAシリーズ」を受注生産。リーズナブルな価格で自由なパターン作成とニーズに合うシステム構築が可能です。
豊和工業株式会社は内層板用両面同時露光装置 光 HDE110Sを取り扱っています。タクトタイムの縮小、高スループット、大基板サイズにも対応できる柔軟性などメリットが多いです。技術伝承に取り組み、安定品質のためにISO9001:2015も取得しています。
インスペックは、ロールtoロール型シームレスレーザー直描露光機RD3000を取り扱っています。世界初の長尺シームレス露光を可能にしたのが注目点です。メンテナンスコストの削減、生産力のアップ、ランニングコストを減らしたい方はチェックしてみてください。
ホクシンエレクトロニクスは、液晶露光装置や半導体装置などの電子機器を製造している企業です。液体露光装置は、電子機器1級、2級といった有資格者が在籍している西工場で組み立てています。部材調達から納品まで一貫体制です。
自動両面露光装置を提案できます。上下に備えたアートワークフィルムを備えており、同時に基盤両面を露光できるのがメリットです。高精度アライメント、クリアランスの任意設定、Roll to Rollや Sheet にも対応できる柔軟性もあります。
平田機工株式会社では、300/200mm・200/150mmプリアライナや、300mm エッジグリップアライナを取り扱っています。共通しているのはパーティクル対策を備えている点です。非接触の露光装置もあり、高速、高精度で生産性のアップが期待できます。
米国カンタムデザインの日本法人として、豊富な専門知識と経験に基づいて特徴のある機器を核としたソリューションビジネスを展開しています。卓上型で省スペースで現場でのグレードアップも可能なマスクレス露光装置ML3babyを提供しています。
昭和50年に創業し、プリント基板の製造材料一筋、ソルダーレジスト・半田・フラックスなどプリント基板の製造に関する消耗品を提供しています。高精度なプリントに対応でいるU字光源を搭載した静粛性にも優れている露光装置を開発・販売しています。
キャノン製PLAシリーズヤMPAシリーズの装置に搭載することで両面露光装置として使用できる裏面アライメントと呼ばれるユニットを製作しています。赤外線仕様にもできるユニットで国内外にそれぞれ70台以上の導入実績があります。
エリオニクスは1975年の創業以来、ナノテクノロジーの進化に貢献できる装置を、公的機関や国内外の教育機関などに提供し続けています。導入前の装置デモンストレーションなども行っているので、性能を確かめてから導入できるのが魅力です。
クレステックは創業以来、電子線描画装置の販売を行っている会社です。様々なお客様の要望に応える受諾加工有償サービスや、長年のノウハウを活かして新たな装置の共同開発など幅広く技術を提供しています。海外にも事務所や代理店を持ち、幅広く展開しています。
ナカサクは、1926年の創業から培ってきた広範囲にわたる技術の蓄積を活かしつつ、若手の発想も大切にしています。全自動露光装置を製造する際にも、この装置を製造するには高い精度を求められ、高く厳しいハードルがありましたが、建築面積456平方メートルという巨大なクリーンルームを持つ尼崎工場が完成してからは、高い面精度を得ながら低い熱伝導率により温度変化を受けないため、より精度の高い組立が可能になり、精度や信頼性が高い全自動露光装置の製造を行っています。
東光化学工業にて製造している露光機は、メタルフォト用の機器で、アルミ製の表示プレート製品などを製造できます。また、主力製品であるシンプル露光機は、小型で、消費電力の少ないLEDを使用しており、少ないスペースで使うことができ、使用する際も省電力で済みます。
Mini-Labは、2021年8月に設立した会社です。研究開発に特化した、小型製造装置の開発や製造や販売をしています。独自技術とノウハウを持っており、モノづくりの経験を土台としてニーズに合ったソリューションを提供できる企業です。
世界の半導体市場は、年々拡大しています。2019年にはメモリ不況により、多くの製造装置の出荷額が減少しましたが、先端露光装置EUVが本格的に普及し始めたことで、露光装置の出荷額は増大しています。半導体露光装置の市場規模は、2018年時点で1兆852億円。ここでは、出荷額の市場シェアをスペクトル線(光源波長)ごとに分析。i線、KrF、ArF、EUVそれぞれの露光装置の市場について、企業別のシェアを解説します。
i線の露光装置でトップシェアを占めているのは、キヤノンで55.2%。ついで、アメリカのVeecoが23.5%、ニコンが3位で12.8%、ASMLは8.5%で第4位でした。i線の露光装置を取り扱っている主なメーカー・販売会社の特徴についてもご紹介します。
露光装置市場におけるKrf線のシェア率は、キヤノンが51.1%でトップ。オランダのASMLが46.2%でこの2社で全体の97.3%を占めています。KrFの露光装置を取り扱っているキャノンと、Nikonの特徴もまとめています。
ArF(アルゴン・フッ素)は、レーザーの当て方の違いによって「Arfドライ」と「Arf液浸」に分けられています。ArFドライの1位はニコンで61.7%、ASMLが38.3%で、この2社が市場を独占しています。ArF液浸のシェアでは順位が逆転し、ASMLが94.3%、ニコンが5.7%となっています。
EUV露光装置の開発には、ASMLが成功しており、同社が市場シェアを100%独占しています。ここでは、EUVで世界トップシェアを誇るオランダの半導体製造装置メーカーASMLについてご紹介します。
半導体露光装置について、用語の意味や由来、露光装置の仕組み、半導体露光の工程、露光装置の解像度など、露光装置の基礎知識をまとめました。分かりやすく解説していますので、ぜひチェックして下さい。
半導体露光装置について、ウエハ、感光剤(フォトレジスト)、フォトマスク、プリント基板、 L/S(ライン アンド スペース)といった、よく使われるけどイマイチ意味が分からない用語をピックアップ。意味や名前の由来などをまとめました。
露光装置は、光源、コンデンサレンズ、フォトマスク、投影レンズ、ステージによって構成されています。ここでは、私たちの生活を豊かにしてくれる電化製品に搭載される半導体チップの製造に欠かせない半導体露光装置の仕組みを簡単にご紹介します。
さまざまな製品に組み込まれ、私たちの暮らしを支えている半導体チップ。この製造工程には、大きく分けて3つの工程があります。①マスクやウエハを作成する工程、②前工程、③後工程など、半導体露光の工程を分かりやすく解説します。
半導体デバイスの微細化には、より細い配線を半導体内部に作る必要があり、露光装置の解像度が重要なカギを握っています。解像度とは、削ることができる最小単位の大きさのこと。解像度を上げる技術を、主に3つご紹介します。
非常に高価な半導体露光装置。価格相場は波長ごとに異なります。ここでは、i線、KrF、ArF、EUVそれぞれの光源波長別の露光装置の価格相場と、各装置を製造販売する主要メーカーについてまとめました。
露光装置メーカー・サーマプレシジョンでは、UV-LED光源を搭載したステッパーを製造・販売。省エネ&ランニングコストが大幅に削減できるメリットなどから、大手メーカーを中心に数多くの実績を重ねています。CMSの特徴やUV-LED光源の魅力などをご紹介します。