半導体露光装置の価格について

「史上最も精密な機械」といわれる半導体露光装置の価格は非常に高額です。ここでは、光源波長別の露光装置の価格相場をご紹介します。

半導体露光装置は、利用する光源波長が短いほど微細なパターンが形成できるため、価格も高くなるとされています。

装置の価格相場は、波長ごとに、ｉ線が約4億円、KrFが約13億円、ArFドライが約20億円、ArF液浸が約60億円、EUVが約200億円ほど。露光装置において、より微細な加工を行うためにはより大きなレンズを使う必要があり、次世代の露光装置はさらに大きくなる見込みです。このため、次世代EUV露光装置の量産機の価格は1台約480億円にもなると言われています。

各装置を製造販売する
主要メーカー

露光装置の世界シェアトップは、オランダに本社を置くASMLという会社です。2019年の露光装置全体の出荷額のうち81.2％をASMLが占めており、EUVとArF液浸という、2021年現在市場規模の大きな2つの露光装置で非常に高いシェアを誇っています。

ArFドライでは日本のニコンが、KrFではキヤノンが高いシェアを持っています。i線では、低価格路線で生き残りをかけるアメリカのVeecoが、キャノンに次いで第2位のシェアを占めています。

微細化以外で性能を上げる方法も

一方で、近年露光装置をはじめとする微細化によるプロセスコストの増大が指摘されています。特にEUV関連装置は高額なため、半導体メーカーの投資負担は決して少なくありません。このままでは微細化が進むほど原価がかかり、できあがった半導体の適性売価を上回ってしまうかもしれません。

このため半導体業界では、微細化に技術を進化させるよりも、複数の半導体チップを縦に積む「立体化」など、微細化以外の方法で半導体の性能を高めようとする動きも広がっています。

EUVばかりが必要とされているわけではない

露光装置と一口に言っても、必ずしもEUVで製造した超微細な半導体だけが求められているわけではありません。自動車用や産業用などに使われる半導体など、必要とされる半導体はバラエティーに富んでおり、これらの半導体は高密度、高集積よりも、省電力、耐熱、耐振動性などが求められるため、装置もｉ線やg線などの方が適している場合があります。ｉ線やg線の露光装置なら、ArFやEUVに比べて格段にリーズナブルに導入することが可能です。

また、量産を行う業界などでは、露光装置のスループットが重視されています。スループットとは、どれだけ高速に回路パターンを露光できるかを示す性能のこと。スループットが上昇するとシリコンダイ1枚当たりの製造コストが下がるためです。